主管单位:中国专利与商标杂志社 主办单位:中国专利与商标杂志社
季刊 审稿周期:1个月内 全年订价:¥268.00
《中国专利与商标》由莫修担任主编,创刊于1985年,由中国专利与商标杂志社主管、中国专利与商标杂志社主办的一本政法领域专业期刊。主要刊载该领域内的原创性研究论文、综述和评论等,力求及时、准确、全面的反映该领域的政策、技术、应用市场及动态。
《中国专利与商标》是中国专利与商标杂志社主管、中国专利与商标杂志社主办的政法类学术期刊,该刊所发表的论文所涉及的学科领域主要有政治法律、经济管理、文化科学、自动化与计算机技术政治法律 / 法学、政治法律 / 民商法学、经济管理 / 国民经济、经济管理 / 产业经济。该刊于1985年创刊,本刊为季刊。主要报道政法行业相关领域研究成果与实践。该期刊的创办有利于加强政法研究领域的学术交流,本刊将及时推出该领域的科研成果,使国内外同行能及时、方便地查阅、引用,为政法行业领域的发展做贡献。该杂志得到了广大作者、读者和外审专家的关心、支持和帮助 ,赢得了学术界认可和好评。《中国专利与商标》主要设有業内信息、專題文章、專利、商標、商業秘密、知識産權制度、視角等栏目。以广大的政法工作者为服务对象,是广大政法工作者发表专业论文和学习的学术平台。
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作者:何怀文
作者:--
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